Thiết bị sơn bay hơi Nhà sản xuất

Dây chuyền sản xuất phún xạ từ tính của linh kiện điện tử sử dụng quy trình phủ phún xạ từ tính cho lớp phủ. Theo yêu cầu của quy trình, các lớp phim niken, crom, hợp kim, nhôm và kim loại khác có sẵn. được sử dụng rộng rãi trong các sản phẩm điện tử như điện thoại di động, điện tử, âm thanh, thiết bị gia dụng và các ngành công nghiệp khác. Chúng tôi có đội ngũ R & D hàng đầu, hợp tác với đội ngũ sản xuất tuyệt vời, đội ngũ bán hàng chuyên nghiệp và đội ngũ dịch vụ tận tâm để cùng cung cấp cho khách hàng công nghệ cao.

Sản phẩm từ thiết bị gương bạc không chứa đồng bảo vệ môi trường cao cấp có thể đáp ứng tiêu chuẩn CE của Châu Âu và các sản phẩm gương bạc được sử dụng rộng rãi trong ngành xây dựng. Toàn bộ dây chuyền sản xuất sử dụng động cơ chuyển đổi tần số và tốc độ chạy có thể được điều chỉnh trên màn hình hiển thị màu.

Lớp phủ điện cảm lõi từ được sử dụng như hàn chì điện cảm. Quy trình sản xuất tiên tiến giúp cải thiện đáng kể lực liên kết và độ bám dính giữa lớp phim và phôi, các sản phẩm từ máy phủ lớp cảm ứng lõi từ có thể đạt tiêu chuẩn CE của Châu Âu. Dây chuyền sản xuất lớp phủ điện cảm lõi sản phẩm không có khí thải và không xả nước thải, đáp ứng các yêu cầu công nghiệp quốc gia.

AF Magnetic Sputtering Coater (chống bám vân tay) áp dụng công nghệ phủ tiên tiến hỗ trợ nguồn ion độc đáo của Kerun Vacuum, quy trình phủ bay hơi và phún xạ phản ứng tần số trung gian từ tính, giúp cải thiện đáng kể chất lượng của lớp phim AF. Các sản phẩm từ lớp phủ phún xạ từ tính AF có thể đáp ứng tiêu chuẩn CE của Châu Âu.

Thiết bị nhôm gương bảo vệ môi trường cỡ lớn hiệu quả, thân thiện với môi trường và tiết kiệm năng lượng, sản phẩm được sử dụng rộng rãi trong ngành xây dựng. Chúng tôi có đội ngũ R & D hàng đầu và sở hữu trí tuệ độc lập. Công ty đã thu thập được những nhân tài xuất sắc của đất nước có hơn 30 năm kinh nghiệm trong việc thiết kế và sản xuất các thiết bị chân không cũng như kinh nghiệm dày dặn trong lĩnh vực sơn phủ.

Độ bền của chip Thiết bị đầu cuối phún xạ từ tính mục tiêu phún xạ từ tính kép có tốc độ phủ cao và màng dày. Là một thiết bị đặc biệt cho lớp phủ cuối kháng phoi. Hiệu suất lớp phủ là hơn 99%. Kích thước và cấu hình được tùy chỉnh theo yêu cầu của khách hàng.